Китайская компания Shanghai Micro Electronics Equipment Group (SMEE) заявила о намерении разработать и выпустить 28-нм иммерсионную литографическую машину SSA/800-10W до конца года. Утверждается, что это будет крупный прорыв в отрасли, который позволит производить чипы, отвечающие требованиям широкого ряда устройств.
SMEE была основана в 2002 году и считается одним из передовых производителей литографических машин в Китае. Компания контролирует около 80% внутреннего рынка. Более того, эксперты называют её единственным потенциальным конкурентом ведущего производителя литографических машин из Нидерландов ASML.
Непосредственно на сайте SMEE указано, что компания разработала машины, способные производить чипы по стандарту 90-нм, что подходит для большинства бюджетных решений. Хэ Жунмин, вице-председатель SMEE, рассказал, что когда в 2002-м их специалисты выезжали за границу для получения опыта, некоторые иностранные инженеры заявляли, что даже если дадут все необходимые чертежи, китайцы всё равно не смогут изготовить литографическую машину. По возвращении на родину сотрудники SMEE усиленно трудились в течение пяти лет, что позволило добиться весомых успехов.
Важно отметить, что разработка собственного оборудования для производства современных чипов является важным достижением для Китая, поскольку США, Япония и Нидерланды объединились для сдерживания технологического сектора Поднебесной, ограничив поставки полупроводниковой продукции.
По словам экспертов, производить процессоры в рамках одной страны крайне сложно. Так, самая передовая машина для литографии в глубоком ультрафиолете состоит из более чем 450 000 компонентов, что более чем в 20 раз превышает количество деталей в гоночном автомобиле «Формулы-1». Для сравнения, нидерландская ASML самостоятельно производит лишь 15% компонентов для своих машин. Поэтому аналитики уверены, что Китаю необходимо стремиться к сотрудничеству с теми, кто выступает за глобализацию технологий.
